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国策
06-13 11:29
优质创作者
“因封锁而主动把市场让出来，这是头一次”有人在美国停止向中国科技企业供货，以及威胁台积电不允许给华为代工芯片的新闻下评论，作为领先者主动放弃市场可不是一步好棋。事实上，科技市场很难出现大的反转，尤其是在美国垄断的背景下，但眼下美国却主动与世界第二大经济体远离，这反而促进了中国相关产业的发展。
美国限制是为了让中国在某些问题上妥协，白宫认为中国无法大量生产芯片，因为中国缺乏生产芯片的光刻机。据悉，中芯国际可以量产14纳米的芯片，但因缺乏EUV光刻机，所以没生产7纳米以下的芯片。中国在相关领域的发展真的这么被动吗？天无绝人之路，更何况我们早就提前开辟了道路。很多人只看到了当前美国和日本在集成电路产业的优势，但实则新中国成立不久后就已经开始在该领域投入研发，1958年实现了硅单晶，甚至比日本还早两年。但该领域的市场被美国所主导，而企业都是逐利的，会考虑市场成本，中国人口基数大，我们要考虑就业等等问题，所以初期更看重市场规模大的产品，相应的技术含量也就没那么高。至于那些市场规模小、技术难度高的产品，因为成本原因不划算，通常会由各大国或研究机构进行研发，倒不是我们做不了。
最典型的例子，光刻机。大家老以为西方的光刻机先进，所以能造芯片，中国没有技术所以就不能造，但这个逻辑不对，因为只看到了浅显的市场状态。就光刻机本身而言，它并不是完全无法拥有的技术。荷兰ASML公司占了全球100%的EUV光刻机市场，但前两年全球的总货量不过44台，可见市场狭窄，而且其中的各零部件生产成本高，所以多年以来中国都没有哪家企业愿意去量产。但其实中国是有研制实力的，比如上海微电子的90纳米光刻机就是成熟的产品，上海光机所在8年前就开始研发EUV光源了，拜白宫所赐，本是纯科研模式的中国光刻机模式被迫向市场转型，或许这就是我们等待多年的机会，原本分散在中国各研究所在EUV领域展开了全面合围。
上海微电子日前宣布，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机，这意味着中国在光刻机制造领域已经超过了日本的尼康和佳能，是仅次于ASML公司的存在。同时研究人员表示这台光刻机将使用ArF光源，套刻精度在1.9纳米左右，在多次曝光下实现11纳米制程芯片的生产。另外，中国已经在与之相关的抛光液、抛光垫、光刻胶、刻蚀液、显影液等材料领域实现了国产替代（也就是芯片领域涉及到全产业链我们都将在这两年能搞定），我们有技术可以生产更高精尖的光刻机，缺的不过是市场机会罢了。如今美国主动让出市场，这就给我国半导体产业一个成长壮大的绝佳机会，在这一点上我们不得不感谢特朗普先生。
